patent-expert

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name: patent-expert description: 专利全流程专家。覆盖专利挖掘、专利布局、专利检索、交底书撰写、权利要求分析与交底书配图建议。当用户提到专利、专利挖掘、专利布局、交底书、权利要求、专利检索、现有技术、侵权分析、创新点、专利申请时触发此 Skill。

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Patent Expert

面向专利工作全流程的综合技能，适用于技术方案挖掘、检索分析、交底书整理、权利要求分析和布局规划。

核心能力

1. 专利挖掘

从产品、技术方案、业务流程中识别可专利的技术点。

工作流程： 1. 获取用户提供的技术方案、产品文档或流程描述。 2. 按核心算法、系统架构、交互流程、软硬件结合、数据结构、网络通信等维度拆解技术点。 3. 评估新颖性、创造性、实用性。 4. 输出按优先级排序的技术点清单。

输出格式：

专利技术点清单
===============
#1 [核心] 技术点名称
   - 技术问题：
   - 解决方案：
   - 预期效果：
   - 新颖性评估：5/5
#2 [重要] 技术点名称
   ...

2. 专利布局

围绕核心技术做系统性申请规划。

布局策略：

城墙布局

星状布局

伞状布局

糖衣布局

工作流程： 1. 确定核心技术。 2. 横向展开应用场景、终端和行业。 3. 纵向展开基础方案、改进方案、优化方案。 4. 识别竞争对手可能的绕行路径。 5. 输出布局地图和时间规划。

输出格式：

专利布局地图
===============
核心技术：[名称]
+-- 基础专利
|   +-- P1: [专利名称] - 优先级：5/5
|   +-- P2: [专利名称] - 优先级：4/5
+-- 应用场景扩展
|   +-- P3: [场景A方案] - 优先级：3/5
|   +-- P4: [场景B方案] - 优先级：3/5
+-- 竞品防御
|   +-- P5: [绕路方向防御] - 优先级：4/5
+-- 时间规划
    +-- 第1批（立即）：P1, P2
    +-- 第2批（3个月内）：P3, P5
    +-- 第3批（6个月内）：P4

3. 专利检索

利用公开资源进行专利检索和分析。

检索数据库： 1. Google Patents: https://patents.google.com 2. CNIPA: https://pss-system.cponline.cnipa.gov.cn 3. USPTO: https://ppubs.uspto.gov 4. Espacenet: https://worldwide.espacenet.com

工作流程： 1. 确定检索目标。 2. 提取关键词和分类号。 3. 构建检索式。 4. 执行检索并筛选。 5. 输出检索分析报告。

4. 交底书撰写

撰写标准发明专利交底书。

推荐结构：

发明名称

技术领域

背景技术

发明目的

技术方案

有益效果

附图说明

具体实施方式

规范要求：

对应权利要求层级。

详细到本领域技术人员可实现。

有益效果与技术问题一一对应。

优先使用规范专利术语。

模板：见 assets/invention-disclosure-template.md

5. 权利要求分析

分析现有专利权利要求范围，逐条对比技术特征，识别保护范围边界，并输出技术特征对比表。

6. 交底书配图建议

根据交底书中的附图说明，组织专利配图需求，统一图纸风格和命名规则。

绘图参考：references/patent-drawing-guide.md

建议流程： 1. 读取附图说明，提取图号、图名和核心关系。 2. 在系统架构图、流程图、模块结构图、DAG 图、时间示意图、多设备示意图中选择合适图型。 3. 依据指南生成绘图脚本或绘图说明。 4. 检查输出图是否与交底书一致。

说明：

本技能可提供配图结构和绘制要求。

若实际执行绘图，需要结合当前主机环境确认 Python、Graphviz、字体和输出路径配置。

工作流路由

| 用户意图 | 路由 | |----------|------| | 方案能申请专利吗 | 专利挖掘 -> 交底书 | | 做专利规划 | 专利挖掘 -> 专利布局 | | 查现有专利 | 专利检索 | | 写交底书 | 交底书撰写 | | 分析权利要求 | 权利要求分析 | | 画交底书图/补图/生成配图 | 交底书配图建议 | | 写权利要求/检查 claim 合规 | 结合其他权利要求撰写技能协同处理 |

协作建议

交底书初稿形成后，可与专利申请起草类技能串联。

权利要求审查或质量校验时，可与专利审稿类技能交叉使用。

需要管理层汇报时，可将结果压缩为技术点优先级、申请批次和业务价值摘要。

参考资源

交底书模板：assets/invention-disclosure-template.md

布局案例：references/layout-examples.md

检索技巧：references/search-techniques.md

配图指南：references/patent-drawing-guide.md